產(chǎn)品介紹

環(huán)保電感耦合光譜儀廠(chǎng)家

環(huán)保電感耦合光譜儀廠(chǎng)家

ICP是光譜儀，全稱(chēng)：電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀 “等離子體光電直讀光譜儀"。 ICP光譜儀是當(dāng)前光譜分析中最迅速非常靈敏的一種儀器。

ICP光譜分析儀（ICP-AES/OES），主要用于微量/痕量元素的分析，可分析的元素為大多數(shù)的金屬和硅，磷等少量的非金屬，共72種。廣泛應(yīng)用于稀土、貴金屬、合金材料、電子產(chǎn)品、醫(yī)藥衛(wèi)生、冶金、地質(zhì)、石油、化工、商檢、環(huán)保以及釹鐵硼、硅、硅鐵、鎢、鉬等行業(yè)分析檢測(cè)，可對(duì)待測(cè)樣品進(jìn)行定性或從超微量到常量的定量分析。

　ICP是光譜儀是將復(fù)色光分解為光譜，并進(jìn)行記錄的精密光學(xué)儀器。在可見(jiàn)光和紫外光區(qū)域，過(guò)去常用照相法記錄光譜，故也稱(chēng)攝譜儀。在紅外區(qū)域，一般用光敏或熱敏元件逐點(diǎn)記錄，故有紅外分光計(jì)的名稱(chēng)。

　現(xiàn)在在各個(gè)波段均采用光電接收和記錄的方法，比較直接、靈敏，稱(chēng)為“光電記錄光譜儀"。為了得到更多的光譜線(xiàn)，可以把被分析物質(zhì)放在等離子體火焰中激發(fā)，在光譜儀中除采用光電接收方法外，還配有專(zhuān)用計(jì)算機(jī)，計(jì)算物質(zhì)中各元素含量?？梢栽跀?shù)秒種內(nèi)從顯示器的熒光屏讀出結(jié)果。

這種儀器可以說(shuō)是速度和精度的非常好的結(jié)合，儀器優(yōu)勢(shì)

1、化學(xué)干擾少,測(cè)試結(jié)果更加精準(zhǔn)。

2、測(cè)試元素多,最多可測(cè)70余種元素。

3、檢出限低,絕大多數(shù)元素可達(dá)pb級(jí)。

4、多元素同時(shí)測(cè)試,一次進(jìn)樣所有元素同時(shí)測(cè)試。

5、分析速度快,每分鐘約5個(gè)元素,最快測(cè)試速度可到每分鐘10個(gè)元素。

6、線(xiàn)性范圍寬,可達(dá)5-6個(gè)數(shù)量級(jí),可以實(shí)現(xiàn)高低含量同時(shí)測(cè)試,無(wú)需更換標(biāo)準(zhǔn)曲線(xiàn)。

技術(shù)參數(shù)：

1、輸入電源：電壓交流220V，電流20A。

2、采用Czerny Turner型光路，焦距為1000mm。

3、離子刻蝕全息光柵，刻劃面積（80×110）mm。

4、全自動(dòng)一鍵點(diǎn)火，自動(dòng)匹配，點(diǎn)火穩(wěn)定、便捷。

5、采用同心圓霧化器搭配旋流霧室，1ppmMn強(qiáng)度＞1000000cps。

6、分辨率（Mn257、610nm）：≤0、005nm（4320刻線(xiàn)光柵）；

                                                     ≤0、008nm（3600刻線(xiàn)光柵）；

                                                      ≤0、015nm（2400刻線(xiàn)光柵）；

7、波長(zhǎng)范圍：190-460nm（4320刻線(xiàn)光柵）；

                        190-500nm（3600刻線(xiàn)光柵）；

                        190-800nm（2400刻線(xiàn)光柵）；

8、自主研發(fā)全固態(tài)射頻電源，輸出功率800-1600W,連續(xù)可調(diào)，電源效率大于65%，工作頻率27、12MHz，頻率穩(wěn)定性＜0、05%，功率輸出穩(wěn)定性＜0、05%。

光柵刻線(xiàn)光柵：2400刻線(xiàn)光柵：3600刻線(xiàn)光柵：4320刻線(xiàn)

波長(zhǎng)范圍190nm-800nm190nm-500nm190nm-420nm

示值誤差±0.03nm±0.03nm±0.03nm

重復(fù)性≦0.005nm≦0.005nm≦0.005nm

光譜帶寬Mn 257.610nmMn 257.610nmMn 257.610nm

半高寬≦0.030nm半高寬≦0.015nm半高寬≦0.007nm

檢出限/(ug/L)Zn(213.856nm)≦ 3.0Zn(213.856nm)≦ 3.0Zn(213.856nm)≦ 3.0

Ni(231.604nm)≦ 10.0Ni(231.604nm)≦ 10.0Ni(231.604nm)≦ 10.0

Mn(257.610nm）≦ 2.0Mn(257.610nm）≦ 2.0Mn(257.610nm）≦ 2.0

Cr(267.716nm)≦ 7.0Cr(267.716nm)≦ 7.0Cr(267.716nm)≦ 7.0

Cu(324.754nm)≦ 7.0Cu(324.754nm)≦ 7.0Cu(324.754nm)≦ 7.0

Ba(455.403nm）≦ 1.0Ba(455.403nm）≦ 1.0Ba(455.403nm）≦ 1.0

重復(fù)性3號(hào)溶液 RSD≤1.5%3號(hào)溶液 RSD≤1.5（%）3號(hào)溶液 RSD≤1.5（%））

穩(wěn)定性3號(hào)溶液 RSD≤2%3號(hào)溶液 RSD≤2%3號(hào)溶液 RSD≤2%

 三、 產(chǎn)品規(guī)格與技術(shù)指標(biāo)

1、固態(tài)電源

（1）工作頻率:27.12MHz

（2）頻率穩(wěn)定性:<0.05%

（3）匹配方式:自動(dòng)匹配

（4）輸出功率:800W~1600W,連續(xù)可調(diào),電源效率大于65%

（5）輸出功率穩(wěn)定性:≤0.05%

（6）輸出工作線(xiàn)圈內(nèi)徑25mm、3匝,配三同心外徑20mm的石英炬管

（7）同軸型噴霧器外徑6mm;旋流型霧化室

2、掃描分光器

（1）光路: Czerny turner型;

（2）焦距:1000mm

（3）光柵規(guī)格:離子刻蝕全息光柵,刻線(xiàn)密度4320L/mm或3600L/mm或2400L/mm;

（4）刻劃面積(80x110)mm

（5）分辨率:s0.008nm(3600線(xiàn)光柵);s0.015nm(2400線(xiàn)光柵)0.005nm(4320線(xiàn)光柵)

（6）掃描波長(zhǎng)范圍:190-460nm(4320L/mm光柵);3600線(xiàn)光柵:(190~500)nm;2400

（7）線(xiàn)光柵:(190~800)

3、電子測(cè)量及控制電路

（1）光電倍增管規(guī)格:R212/R928;

（2）光電倍增管負(fù)高壓:(-50~-1000)V;

（3）光電倍增管電流測(cè)量范圍:(10-12~10-4)A;

（4）信號(hào)采集:VF轉(zhuǎn)換

（5）顯示器:17英寸液晶顯示器;